Herramientas chinas de semiconductores es el llamado que SMIC y AMEC lanzan a la industria: que las fábricas prueben con más decisión los equipos nacionales en líneas de producción activas para acelerar la cualificación y mejorar rendimiento y disponibilidad.
La petición, emitida de forma conjunta en el programa Dialogue de CCTV el 17 de mayo, llega cuando los fabricantes de equipamiento doméstico cierran 2025 con ingresos récord, pero con márgenes bajo presión y un cuello de botella que sigue sin solución: la litografía avanzada.
Pruebas en producción para herramientas chinas de semiconductores
Richard Chang, fundador de SMIC, y el presidente y CEO de AMEC, Dr. Gerald Yin, insistieron en la necesidad de pasar de prototipos funcionales a equipos calificados mediante pruebas reales en línea. Chang recomendó arrancar con lotes pequeños —hasta 100 obleas— para limitar riesgos mientras se valida el equipo en producción.
Yin, por su parte, recordó que los sistemas extranjeros suelen necesitar entre dos y tres años de ajuste cuando se integran en fábricas punteras. En industria, el periodo estándar para cualificar una nueva herramienta de etch o deposición en una línea avanzada suele ser de 18 a 24 meses, un proceso que mide fiabilidad, partículas, deriva de proceso y rendimiento sostenido, no solo si la máquina puede fabricar una oblea en condiciones controladas.
Lo que AMEC no aclara todavía es hasta qué punto sus afirmaciones de despliegues rápidos y volumen real se sostienen ante auditorías independientes. AMEC dice haber construido un prototipo gigante de equipo para paneles planos en 12 meses, cumplido especificaciones en 16 y enviado una unidad a producción en 18 meses; también afirma que SMIC compró al menos 800 de sus herramientas. Esos números han sido citados en la emisión, pero no verificados públicamente.
Ingresos récord, márgenes en retroceso y la cuenta pendiente de la litografía
La industria china de equipamiento creció con fuerza en 2025. AMEC registró 1.74 mil millones de dólares (12.38 mil millones de RMB), un alza interanual del 36.6%, con un beneficio neto aproximado de 310 millones de dólares (2.11 mil millones de RMB), según los datos presentados en la comparecencia.
Otros ejemplos: Naura declaró 3.91 mil millones de dólares en ingresos en los primeros tres trimestres; Piotech duplicó su facturación en nueve meses hasta 617 millones; y ACM Research presentó 901.3 millones de dólares en el año, un crecimiento del 15.2%.
Pese a los ingresos, los márgenes se están estrechando. AMEC vio su margen bruto anual caer 1.9 puntos porcentuales hasta 39.2%, con un descenso de 5.8 puntos solo en el tercer trimestre. ACM Research redujo su margen bruto del 50.1% en 2024 al 44.4% en 2025. Analistas atribuyen esa erosión principalmente a la competencia interna y a guerras de precio por pedidos que antes iban a Applied Materials, Lam o Tokyo Electron.
En la práctica, esto significa que las fábricas chinas compran más equipo local: la proporción de equipamiento doméstico se estima en torno al 35%, frente al 25% de hace un año. Beijing apunta informalmente a un objetivo de contenido doméstico del 50% en nuevas fábricas. Los avances, sin embargo, se concentran en nodos maduros: etch localizado en 50–60%, stripping de resist por encima del 80%, deposición thin‑film entre 20–30% y litografía por debajo del 5%.
El verdadero escollo sigue siendo la litografía. SMEE, el proveedor chino más visible, produce escáneres ArF de clase 90 nm. Hay menciones de un sistema para 28 nm en desarrollo, pero no está confirmado en producción masiva. Un proyecto a seguir es el escáner DUV de inmersión Shanghai Yuliangsheng —apodado “Mount Everest” y vinculado a SiCarrier— que SMIC estaría probando y podría orientar a flujos de 28 nm en 2027, aunque la litografía sub-10 nm con equipamiento puramente doméstico es improbable antes de 2030.
Mientras tanto, ASML sigue vendiendo DUV a China dentro de las reglas actuales: en el tercer trimestre de 2025, el 42% de los ingresos por sistemas de ASML vinieron de clientes chinos. Washington, sin embargo, intenta estrechar ese acceso: el MATCH Act nombra empresas y fábricas chinas como «Covered Facilities» e incluiría una prohibición de exportar escáneres DUV de inmersión. La Cámara aprobó el texto tras eliminar una cláusula sobre etch criogénico; el apartado sobre DUV inmersión sigue en la ley y está en manos del Senado.
En la práctica, la combinación de controles de exportación crecientes y una industria local que compite por cuota impulsa a proveedores chinos a aceptar precios y ciclos más agresivos, afectando la rentabilidad. Esto explica por qué, pese a los récords de facturación, los beneficios están bajo presión.
No es un detalle menor: SMIC ha registrado en 2025 pérdidas de rendimiento relacionadas con mantenimiento y retrasos en la validación de equipos, la misma clase de problema que obliga a Chang a pedir más pruebas en línea. Parte del equipo extranjero adquirido por algunas fábricas permanece sin usar por falta de repuestos o servicio de campo en condiciones normales tras las sanciones.
La apelación pública en CCTV tiene, además, una lectura política. Es un mensaje coordinado desde la industria y el Estado para acelerar la adopción de herramientas nacionales antes de que se cierren más ventanas comerciales. La cuestión abierta es si la industria podrá convertir prototipos y réplicas funcionales en herramientas que cumplan rendimiento, uptime y yields en producción masiva.
Vale la pena esperar a verlo en condiciones reales antes de asumir que la sustitución es completa: en muchos casos la transición requerirá tiempo, inversión en servicio posventa, y una mejora sostenida en litografía que hoy no existe a escala para nodos avanzados.
